به طور کلی روشهای رسوب نشانی در خلا به دو دسته کلی رسوب شیمیایی بخار (CVD) و رسوب فیزیکی بخار (PVD) تقسیم میشوند. یکی از روشهای رسوب فیزیکی بخار روش کندوپاش مغناطیسی است. در این روش به کمک پلاسما، ماده مورد نظر را (هدف) به حالت بخار درآورده و سپس به عنوان پوشش بر روی زیرلایه مورد نظر قرار میگیرد. یکی از مهمترین مشکلات سابق این روش نرخ لایه نشانی کم است که سبب میشد نگاه صنعتی به این روش وجود نداشته باشد. اما در سالهای اخیر با ابداع روش کندوپاش مغناطیسی غیر متعادل و بعد از آن ابداع روش کندوپاش مغناطیسی غیرمتعادل مدار بسته، نرخ لایهنشانی به طور قابل توجهی بهبود پیدا کرده است و از اینرو این روش جای خود را در صنعت پیدا کرده است. به کمک این روش میتوان انواع لایههای فلزی یا اکسیدی، نیتیریدی، کاربیدی را بر روی زیرلایه اعمال کرد. از مهمترین مزایای این روش نسبت به روشهای رقیب خود میتوان به موارد زیر اشاره کرد.
- لایه نشانی در دمای کمتر از ۳۰۰ درجه سانتیگراد انجام میگیرد. (مشکل روش تبخیری و CVD)
- با انتخاب مواد مناسب (تارگت با خلوص بالا)، میتوان لایههایی با خلوص بسیار مناسب و بدون وجود ذرات درشت در پوشش (مشکل روش Arc- PVD) ایجاد کرد.لایه های (تیتانیوم نیترید) TiNمزایای پوشش تیتانیم نیترید
- افزایش عمر پره های کمپرسور با پوشش مقاوم به رفتگی (erosion) تیتانیم نیترید
- جلوگیری از کاهش عملکرد موتور و افزایش سوخت
کاربردهای تجاری پوشش تیتانیم نیترید
- اعمال شده بر روی موتورهای PW2000، LM6000،JT8D، CT58، ۵۰۱D، T56 و T64
- اعمال شده بر روی آلیاژهای AM355، A286، Inconel 718، Custom 450 و Ti-6-4